Ученые установили рекорд разрешающей способности, "нарисовав" электронным лучом элементы, размером в один нанометр

Будущее сегодня

Технологии / Будущее сегодня 19 Просмотров

Электронно-лучевая литографияИспользование электронно-лучевой литографии (electron-beam lithography, EBL) по отношению к специальным чувствительным материалам является одним из основных методов производства в современных нанотехнологиях. Когда размеры элементов материалов со сложной структурой (метаматериалов) уменьшается и переходит с макроуровня на наноуровень, до уровня отдельных молекул и атомов, свойства материала, такие, как химическая активность, удельная электро- и теплопроводность, уровень взаимодействия со светом резко изменяются.

Комментарии